Achat de deux systèmes; un pour le dépôt en phase vapeur d’oxyde et de Nitrure de Silicium à basse température (ICP-CVD), ainsi qu’un équipement de gravure profonde de Silicium (ICP-RIE)
Achat de deux systèmes; un pour le dépôt en phase vapeur d’oxyde et de Nitrure de Silicium à basse température (ICP-CVD), ainsi qu’un équipement de gravure profonde de Silicium (ICP-RIE) | Adjudication publique · CanPursue